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真空镀膜:射频放电离子镀

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-09-29 9:19:46 * 浏览: 155
1973年,日本村山开发了一种射频放电离子镀(RFIP)装置,其原理图如图10-22所示。装置的真空度为10-1 Pa至10-2 Pa,气相沉积材料的雾化度为10%,加热的频率线圈高7 cm,并用3根铜线缠绕7圈。射频源频率为13.56MHz或18MHz,功率为1kW〜2kW,直流偏置为0〜1500V。该装置分为三个区域:以蒸发源为中心的蒸发区,以高频线圈为中心的电离区和以基板为中心的离子加速区。这三种有机地结合在一起,可以涂上金属膜,化合物膜和合金膜。由于涂布时的真空度高,镀层的针孔数少,膜质均匀且致密,并且纯度高,这对于制造超导膜和光学器件特别有利。电影。 RF放电离子镀的优点:1蒸发,电离和加速这三个过程是独立控制的,并且电离是通过RF激发的,而不是加速DC电场,并且在基板周围不会产生阴极暗区。 2工作压力低,成膜质量好。 3基板温度较低且易于控制。缺点是:由于真空度高,衍射差,需要频率源和电极之间的匹配源,并且随着涂层参数的变化而调整,蒸发源和频率源容易产生对于干扰,无线电频率对人体有害。需要受到保护。